穩定性好
半導體泵浦激光標記系統采用半導體技術(shù)取代傳統的電真空技術(shù)。激勵源采用大功率半導體矩陣,大大延長(cháng)了產(chǎn)品的壽命和系統的穩定性。
精度高
半導體泵浦激光打標系統輸出光束質(zhì)量更趨近理想模式,更適合于超精細加工,最小字符尺寸可達0.2mm,使激光標記的精度達到一個(gè)新的數量級。
速度快
半導體泵浦激光打標系統采用超精細的光學(xué)器件,其振鏡速度遠高于傳統激光系統。
能耗低
半導體激光打標系統應用高效半導體矩陣,使激光轉換效率大為提高。
可靠性高
半導體激光打標系統的系統集成度高,不需要高壓電源,高壓器件,極大地保證系統可靠性。
體積小高
度集成化的控制系統,有利于顧客更好地利用工廠(chǎng)空間。
可雕刻金屬及多種非金屬材料。更適合應用于一些要求更精細、精度更高的場(chǎng)合。
應用于電子元器件、集成電路(IC)、電工電器、手機通訊、五金制品、工具配件、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車(chē)配件、塑膠按鍵、建材、PVC管材、醫療器械等行業(yè)。
適用材料包括:普通金屬及合金(鐵、銅、鋁、鎂、鋅等所有金屬),稀有金屬及合金(金、銀、鈦),金屬氧化物(各種金屬氧化物均可),特殊表面處理(磷化、鋁陽(yáng)極化、電鍍表面),ABS料(電器用品外殼,日用品),油墨(透光按鍵、印刷制品),環(huán)氧樹(shù)脂(電子元件的封裝、絕緣層)。
項目名稱(chēng) | 技術(shù)參數 |
---|---|
型號 |
CX-DP50/75 |
激光輸出功率 |
50W/75W |
激光波長(cháng) |
1064nm |
光束質(zhì)量m2 |
<6 |
激光重復頻率 |
≤50KHz |
標準雕刻范圍 |
110mmX110mm |
選配雕刻范圍 |
70mmX70mm/100mmX100mm 150mmX150mm(可選) |
雕刻深度 |
0.50mm/0.75mm |
整機功率 |
1.5KW |
最小線(xiàn)寬 |
0.015mm |
重復精度 |
±0.0025mm |
雕刻線(xiàn)速 |
≤7000mm/s |
主機尺寸(L×W×H) |
主機系統:880×850×1200mm 冷卻系統:720x440x720mm |
冷卻系統 |
高精度恒溫 ±0.1/循環(huán)冷水機 |