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半導體側面泵浦激光打標機
半導體泵浦系列激光打標機是使用振鏡激光打標技術(shù)及國際上最先進(jìn)的半導體泵浦激光技術(shù),采用美國CEO原裝進(jìn)口半導體列陣,用波長(cháng)808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG 晶體,使YAG棒產(chǎn)生大量的反轉粒子,在Q開(kāi)關(guān)的作用下形成波長(cháng)為1064 nm的巨脈沖激光束輸出,激光
  
半導體泵浦系列激光打標機是使用振鏡激光打標技術(shù)及國際上最先進(jìn)的半導體泵浦激光技術(shù),采用美國CEO原裝進(jìn)口半導體列陣,用波長(cháng)808nm半導體激光二極管泵浦Nd:YAG 晶體,使YAG棒產(chǎn)生大量的反轉粒子,在Q開(kāi)關(guān)的作用下形成波長(cháng)為1064 nm的巨脈沖激光束輸出,激光束通過(guò)擴束、聚焦,最后通過(guò)控制振鏡的偏轉實(shí)現標刻。它是激光打標領(lǐng)域的一次突破性變革, 此種激光器具有能耗小、電光轉換效率高、激光輸出模式穩定性好、可靠性高、體積小、打標效果好、無(wú)耗材等顯著(zhù)優(yōu)點(diǎn)。整機依照人體工程學(xué)原理采用一體化設計,外形美觀(guān)、操作方便。重要光學(xué)部件均為歐美原裝進(jìn)口,光路系統采用全密封結構、具有光路預覽和焦點(diǎn)指示功能、為機器長(cháng)時(shí)間連續24小時(shí)工作提供了可靠的保障。
 

樣品展示

技術(shù)特點(diǎn)

穩定性好

半導體泵浦激光標記系統采用半導體技術(shù)取代傳統的電真空技術(shù)。激勵源采用大功率半導體矩陣,大大延長(cháng)了產(chǎn)品的壽命和系統的穩定性。

精度高

半導體泵浦激光打標系統輸出光束質(zhì)量更趨近理想模式,更適合于超精細加工,最小字符尺寸可達0.2mm,使激光標記的精度達到一個(gè)新的數量級。

速度快

半導體泵浦激光打標系統采用超精細的光學(xué)器件,其振鏡速度遠高于傳統激光系統。

能耗低

半導體激光打標系統應用高效半導體矩陣,使激光轉換效率大為提高。

可靠性高

半導體激光打標系統的系統集成度高,不需要高壓電源,高壓器件,極大地保證系統可靠性。

體積小高

度集成化的控制系統,有利于顧客更好地利用工廠(chǎng)空間。


應用領(lǐng)域

可雕刻金屬及多種非金屬材料。更適合應用于一些要求更精細、精度更高的場(chǎng)合。

應用于電子元器件、集成電路(IC)、電工電器、手機通訊、五金制品、工具配件、精密器械、眼鏡鐘表、首飾飾品、汽車(chē)配件、塑膠按鍵、建材、PVC管材、醫療器械等行業(yè)。

適用材料包括:普通金屬及合金(鐵、銅、鋁、鎂、鋅等所有金屬),稀有金屬及合金(金、銀、鈦),金屬氧化物(各種金屬氧化物均可),特殊表面處理(磷化、鋁陽(yáng)極化、電鍍表面),ABS料(電器用品外殼,日用品),油墨(透光按鍵、印刷制品),環(huán)氧樹(shù)脂(電子元件的封裝、絕緣層)。

產(chǎn)品參數

項目名稱(chēng) 技術(shù)參數

型號

CX-DP50/75

激光輸出功率

50W/75W

激光波長(cháng)

1064nm

光束質(zhì)量m2

<6

激光重復頻率

≤50KHz

標準雕刻范圍

110mmX110mm

選配雕刻范圍

70mmX70mm/100mmX100mm

150mmX150mm(可選) 

雕刻深度

0.50mm/0.75mm

整機功率

1.5KW

最小線(xiàn)寬

0.015mm

重復精度

±0.0025mm

雕刻線(xiàn)速

≤7000mm/s

主機尺寸(L×W×H)

主機系統:880×850×1200mm

冷卻系統:720x440x720mm

冷卻系統

高精度恒溫 ±0.1/循環(huán)冷水機